“20年差距”上热搜!中国光刻机真被ASML甩远?真相让人热血沸腾 一、一句话引爆舆论:65纳米=落后20年?高盛报告原文写道:“中国本土光刻设备制造能力集中在65纳米节点,相较ASML最新EUV存在约20年代际差距。”数字刺眼,迅速冲上热搜。但多位业内人士提醒:节点差距≠时间差距,更不等于“永远追不上”。· 65纳米是哪一年 asml 中芯国际 光刻机 多重曝光 唐传祥 2025-09-04 16:15 1